作者：简易财经

光刻机，俨然成为阻碍华为乃至我国半导体行业发展的“绊脚石”，反过来说，光刻机也成为华为和我国半导体行业加速发展前进的重要因素。去年美国制裁华为后，华为不但没有倒下，反而愈挫愈勇，业绩继续大幅提升。今年，美国直接切断华为的芯片产业链，迫使华为无芯片可用。

距离120天过渡期的结束越来越近，台积电真的不能继续为华为代工了吗？台积电在此前的业绩说明会上已经明确表态会在过渡期之后“断供”，这一点我们不需要再抱有什么幻想。其次，中芯国际也声明将无法为华为“代工”，其实各有各的苦衷。

台积电也不想失去华为这个第二大客户，但是由于技术、市场和其他方面的因素，台积电也只能“该放手就放手”。中芯国际是技术上无法实现，由于无法实现7nm芯片制程工艺，难以为华为分忧，始终无法突破7nm正是缺少最先进的EUV光刻机，而中芯国际至今无法买到荷兰ASML公司的EUV光刻机。

荷兰ASML公司是目前全球最大最先进的光刻机厂商，可以制造全球最先进的EUV光刻机，每年生产的数量也就几十台，一台售价超过1亿美元，极其昂贵，其中一半卖给了台积电，另一半被三星和英特尔买走。

光刻机是生产制造芯片必需的设备，台积电“断供”后，中芯国际也因为没有EUV光刻机而无法生产先进制程芯片，有人说光刻机锁住了华为的“咽喉”，这样的描述也是华为当前遇到的现实困境的反映。

光刻机被誉为“现代光学工业之花”，荷兰ASML公司的光刻机也不完全是自己一家制造的，其中大部分零配件来自各个制造业强国，光源系统来自美国，镜像系统来自德国，其他零配件来自日本及瑞典等国家，集中了全世界最顶尖的科技及制造水平，可想而知，光刻机制造难度之大。

那么，我国是否可以制造光刻机呢？首先需要说明的是，我国是可以制造光刻机的，但是目前无法制造EUV光刻机，中芯国际急需的也是这种EUV光刻机，这种机器的制造难度极高，所需要的零配件也是含有极高科技含量的，集成多个制造强国的顶尖技术，一个国家要自己独立制造出光刻机，其难度可想而知。

中国最大的光刻机厂商，拥有2300多项专利，正在全力追赶荷兰ASML。这家公司是上海微电子，成立于2002年，公司目前可以制造90nm光刻机，根据多个途径获悉，28nm光刻机预计在未来两年内成为现实。当然，荷兰ASML公司的水平是7nm及5nm光刻机，两者的差距依然很大。不过，大多数人将其视为中国光刻机唯一的希望。

最近一段时间，华为高薪挖走上海微电子研发人员的消息一度甚嚣尘上，而且华为也在招聘光刻方面的技术人员，这一系列的消息似乎在说明华为要自己制造光刻机了，真的是这样吗？现在网上有很多带节奏的文章和视频，事情真相或许并不是那样，吃瓜群众越来越多，关心真相的人却越来越少。

有人说，只要华为开始研发，将很快造出光刻机，这是吹牛不打草稿。华为研发出麒麟芯片前后用了数十年，投入了上千亿的资金和数十万的研发人员，才有了今天的成就，而光刻机制造要比芯片研发更有难度，那么华为需要多久？需要继续投入多少，需要多少研发人员？技术的突破不是一朝一夕，需要长期的资金投入和科研积累。

无论是华为，还是上海微电子，都是国产半导体的重要发展力量。目前，我国更加重视国产半导体各方面的发展，正在大力度投入资金和资源进行全方位扶持，在国内巨大市场、雄厚资金、技术研发和人才队伍的加持下，相信在不久的将来，国产先进光刻机将问世。