作爲生產製造芯片的主要工具，光刻機的作用可以說非常大了，沒有光刻機就沒有芯片。中國無法自主生產芯片，一個主要原因就是自己沒有光刻機。相對於芯片來說，光刻機的研發難度又是另外一個等級，有人甚至會問這樣的問題，研發光刻機和原子彈哪個容易一些。

正是因爲中國在芯片製造和光刻機上的行業空白，美國在制裁中國的時候首先就是禁止向中國科技公司出口芯片。而芯片又是手機等智能設備的核心部件，相當於大腦一樣。就這一個限制，中國科技公司的脖子就被西方狠狠掐住了。這對於中國科技公司發展甚至生存來說，都造成了極大的威脅，華爲和中興就是典型例子。因此，中國必須要在芯片製造和光刻機研發上發力。

我國在光刻機領域的落後實際是有現實原因的，我國在該領域起步至少晚了西方國家十幾二十年。而對於生產工藝、精度以及材料要求相當高的光刻機來說，沒有幾十年的積累無法研發出來。荷蘭是世界上光刻機技術領域的佼佼者，荷蘭的ASML公司甚至是全球唯一可以生產EUV的地方，而7nm以下的芯片基本都是要用EUV來製造的。荷蘭就曾表示，即使把光刻機賣給中國，中國也無法仿製出來。原因在於，光刻機的核心原件來自包括美國在內的多個國家，一旦有一個國家進行限制，這件事都無法完成。事實上，這也成了我們目前研發光刻機的一大難題。

要知道，對於中國人來說世界上就沒有無法攀登的山峯，光刻機也是如此。據中國微納米技術學院的消息，蘇州納米所已經在5nm超高精度光刻機上取得重要進展，這意味着中國在該領域的巨大突破。由於我們不具備許多高集成的儀器，所以這次研發出來的成果主要是用來製造集成電路光子芯片的。我們有理由相信，未來屬於中國自己研發的光刻機一定會問世，而且那天正在慢慢到來。