原標題：突破！中科院攻克5納米光刻機關鍵技術，要打破壟斷了嗎

我國在芯片技術領域需要更多的支持以及發展，畢竟我們已經晚了西方國家很大一步，想要在這方面有所成效就需要有更多的一些投入，而華爲自從美國禁令頒佈以來就有更多的一些想法，想要研發我們自身中國芯片的一些研製，也是華爲掀起來的風潮，現在獲得的支持是比較多的。

這一次被美國卡脖子，下一次也可能hi被其他國家卡，也讓更多人意識到了技術發展必須依靠自身，不論是哪個國家，合作都不會是永遠的，如果他們想反悔的話也僅僅只是一張通告的事情。

在芯片技術的發展上，不僅有企業的發展，也有一些科學研究院的支持，中科院的研製也有了一段時間，現在也有一些比較好的消息傳來，他們有了5納米光刻機關鍵技術的一些突破。

光刻機一直都是我們芯片研製上最大的一個阻礙，如果能在這方面有所突破的話，就意味着我們的發展將會一馬平川，這一項技術的突破是由張子謙團隊研發出來的，由於我們在光刻機的研製上其實經驗是比較少的，所以我們就採用了另外的一種方式。

現在開發了一種新型的結構，這種技術可以實現雙激光光束的交疊，這樣的話就能夠在密度以及波長上進行更爲精確的控制。

由於本身光刻機的研製我們就不擅長，所以如果按照傳統的發展模式的話，我們需要有更多的一些發展，但如果我們採取另一種方式，說不定會更快。

這一新型技術的實驗結果也表明了，在線面上將精確度精確到5納米，5納米芯片技術的研製是現在荷蘭才能掌握的技術，如果我們能夠在這方面有所突破的話，也就意味着我們可以有更好的發展。

這關鍵技術的功課也意味着西方國家的壟斷模式可能即將被打破，現在既然證明了這一方法可行，也就是說我們能夠有更多的一些能力提升了，還請大家做一些更多的關注。

國家發展的強大自然離不開各個領域的一些支持，而現在我們有了這樣的發展，相信也會有更多的一些成效。

好了今天就爲大家介紹到這裏，我們下一期再見！