近期，國內著名學府西湖大學傳來一個好消息。研發團隊成功突破“冰刻”三維微納加工技術，取得了一系列重要的研究成果。西湖大學在“冰刻”領域的突破，爲未來“冰刻”技術取代“光刻”技術奠定了理論試驗基礎。隨着“冰刻”技術的不斷發展，依託該技術生產出來的“冰刻機”或將改變芯片製造工藝，未來有望取代目前市面上的光刻機設備。

“光刻”與“冰刻”兩者有很大的不同，前者是指在光照作用下，藉助光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上。而“冰刻”技術雖然仍舊屬於電子書光刻技術，但它與傳統工藝有着很大的不同，是將光刻膠換成了零下140攝氏度左右的冰膜。當電子束打在冰層上後，冰會氣化，這樣就能直接雕刻出冰模板。由於水蒸氣可以包裹任意形狀的表面，使得在脆弱材料上的加工成爲可能，因此“冰刻”技術在未來有着很大的發展前景。

早在2012年，西湖大學就已經開始了對於“冰刻”技術的研究。在2018年，西湖大學研製製造出了世界首臺“冰刻”系統。在近期，科研團隊在2018年的研究成果基礎上，在僅有頭髮絲八分之一的光纖末端，運用“冰刻”技術成功雕刻了上百件作品，成功的掌握了精準控制“冰刻”力度的技術。未來隨着技術的發展，西湖大學有望研發出可以投入商用的“冰刻機”。屆時，中國將實現彎道超車，徹底擺脫被“光刻機”卡脖子的現狀。

近些年，美國動用國家力量打壓華爲等國內高科技企業，正是通過芯片來做到一擊即中。位列中國第二大的通訊設備公司中興，在面對美國的打壓時毫無還手之力。華爲雖然屹立不倒，但在美國的打壓下還是受到了很大的影響。究其根本，中國正是缺乏“光刻機”這樣的重要技術，這甚至成爲中國能否製造出高端芯片的關鍵設備。

西湖大學在“冰刻”技術的突破，爲國產芯片帶來了新的希望。雖然從現實角度來看，離生產出商用的“冰刻機”還有很長的一段路要走，但西湖大學已經用實際行動表明，憑藉着中國人的聰明才智與艱苦奮鬥，我們也可以研發出別國不具備的先進技術。“光刻”技術雖然暫時被西方國家封鎖，但通過中國人民的努力，該技術遲早也會被中國企業成功突破。

編輯：嚶仔