摘要:據知情人透露,紫光集團在收購美光遇阻後,原計劃通過自行研發先進入DRAM領域,然後再進入3D NAND,但在國家集成電路產業基金的協調下,紫光和湖北省、武漢市合作,與國家集成電路產業基金一起,在武漢新芯的基礎上,組建了長江存儲,制定了先三維閃存,後DRAM的戰略,同時佈局DRAM的研發,積蓄DRAM的工藝人才。據知情人透露,紫光集團早在2015年即開始佈局DRAM,延攬高啓全加入紫光集團就是佈局的開始,在高啓全加入紫光集團的同時,紫光國微(原名同方國芯)收購了任奇偉團隊所創辦的公司(現在的西安紫光國芯),任奇偉團隊的前身是奇夢達公司的西安研發中心,任奇偉團隊一直從事DRAM的研發工作,目前團隊人數約500人,從紫光國微的年報披露情況看,該團隊的DRAM產品銷售收入每年約在5~6億人民幣之間,其產品自行設計,在境外代工。

紫光集團宣佈組建DRAM事業羣,國產內存產業再添新動力

6月30日晚間,紫光集團發佈公告稱,決定組建紫光集團DRAM事業羣,全力加速發展國產內存。根據通知,紫光集團將委任刁石京爲紫光集團DRAM事業羣董事長,委任高啓全爲紫光集團DRAM事業羣CEO。

紫光集團宣佈組建DRAM事業羣,國產內存產業再添新動力

根據資料顯示,刁石京曾任工信部電子信息司司長,工信部電子信息司是中國集成電路產業的具體主管司局,刁石京是一位專家型官員,早年畢業於清華大學,長期在工信部電子信息司工作,是中國集成電路領域的資深人士。2018年初,刁石京加入紫光集團,協助紫光集團董事長趙偉國分管集成電路業務,目前還擔任紫光國微董事長和紫光展銳執行董事長,也是紫光集團旗下長江存儲的執行董事。

高啓全有“臺灣存儲教父”之稱,曾在Intel工作,還曾在韓國及日本當顧問,曾任現代電子(海力士前身)DRAM顧問。他早年追隨張忠謀回臺灣,加入臺積電任一廠廠長,後創辦旺宏電子,還曾任臺灣DRAM公司南亞科總經理和華亞科董事長,是華人在全球DRAM界最資深的人士。2015年,高啓全受紫光集團董事長趙偉國之邀,北上加入紫光集團,出任紫光集團全球執行副總裁;2016年長江存儲成立後,擔任長江存儲的執行董事、代行董事長。

據知情人透露,紫光集團早在2015年即開始佈局DRAM,延攬高啓全加入紫光集團就是佈局的開始,在高啓全加入紫光集團的同時,紫光國微(原名同方國芯)收購了任奇偉團隊所創辦的公司(現在的西安紫光國芯),任奇偉團隊的前身是奇夢達公司的西安研發中心,任奇偉團隊一直從事DRAM的研發工作,目前團隊人數約500人,從紫光國微的年報披露情況看,該團隊的DRAM產品銷售收入每年約在5~6億人民幣之間,其產品自行設計,在境外代工。2015年,紫光集團還試圖通過收購美光進入DRAM和3D NAND領域,但收購美光受到美國政府的阻擊,未能如願以償。

不過,目前全球的存儲芯片三巨頭,三星、海力士、美光,都是既做DRAM又做3D NAND。據知情人透露,紫光集團在收購美光遇阻後,原計劃通過自行研發先進入DRAM領域,然後再進入3D NAND,但在國家集成電路產業基金的協調下,紫光和湖北省、武漢市合作,與國家集成電路產業基金一起,在武漢新芯的基礎上,組建了長江存儲,制定了先三維閃存,後DRAM的戰略,同時佈局DRAM的研發,積蓄DRAM的工藝人才。

據知情人透露,紫光集團藉助長江存儲和武漢新芯的平臺,聚集了大量的3D NAND和DRAM的工藝研發人員,工藝研發人員人數近2000人。目前長江存儲和武漢新芯的員工人數近6000人。

據瞭解,目前長江存儲的32層3D NAND已經量產,並且即將於今年年底量產的64層Xtacking 3D NAND,其存儲密度僅比競品96層的3D NAND低10~20%。而下一代,長江存儲將直接跳過96層堆疊,直接進入128層堆疊的研發。

從紫光集團旗下長江存儲的3D NAND閃存的研發和生產來看,紫光集團走的是公開式的自主研發路徑,沒有人質疑其知識產權問題,這主要是因爲NAND閃存技術正從2D走向3D這也使得其得以有彎道超車的可能。

相比之下目前DRAM技術已經是相當成熟,想要繞過國外DRAM巨頭的技術並不容易。

所幸的是,2009年破產的德國DRAM廠商奇夢達,其西安研發中心當時已經被西安華芯(原浪潮集團旗下公司,今天的紫光國芯)收購。這也爲紫光的DRAM的研發奠定了基礎(此前,長鑫存儲公開其DRAM技術來源也是奇夢達,因此外界認爲是紫光與長鑫存儲共享了該技術),同時也能夠避免一些專利問題。

但是,需要指出的是,奇夢達此前所採用的是DRAM技術是深溝槽式(Trench),而目前主流的技術路線是堆棧式(Stack)。在溝槽式DRAM的製造中,必須先在基板蝕刻出溝槽,然後在溝槽中沉積出介電層,以形成電容器,然後在電容器上方再製造出柵極,構成完整的DRAM Cell。這種工藝最大的技術挑戰有二,一是隨着線寬越來越細,溝槽的寬深比跟着增加,如何蝕刻出這種溝槽,是相當大的技術挑戰。其次,在進行沉積工藝時,由於溝槽的開口越來越細,要在溝槽裏面沉積足夠的介電材料,形成容值夠高的電容器,也越來越難。相較之下,堆棧式DRAM則沒有上述問題。

如果紫光DRAM繼續沿着奇夢達的技術路徑向前推進的話,顯然將會非常的艱難,但是如果走堆棧式技術路徑的話,可能又將遭遇國外DRAM廠商的專利圍堵,那麼在奇夢達技術的基礎上,紫光是否能夠通過自主研發,走出新的路徑呢?我們拭目以待。

編輯:芯智訊-林子

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