一、光刻胶按应用领域可分为四类

  (一)光刻胶定义

  光刻胶又称光致抗蚀剂,是由光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体(活性稀释剂)、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体,利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。

  (二)光刻胶所属行业

  光刻胶专用化学品是电子化学品,就生产工艺属性而言,属于精细化工行业;就产品用途而言,属于电子材料行业。

  (三)光刻胶发展历程

  光刻胶自1959年被发明以来就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶被改进运用到印制电路板的制造工艺,成为PCB生产的重要材料。二十世纪九十年代,光刻胶又被运用到LCD器件的加工制作,对LCD面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用。

  (四)光刻胶分类

  按应用领域,光刻胶可以划分为以下类型:

  二、光刻胶产业链覆盖范围广泛

  光刻胶产业链覆盖范围非常广,上游为基础化工材料行业、精细化学品行业,中游为光刻胶制备,下游为电子加工厂商、各电子器产品应用终端。由于上游产品直接影响下游企业的产品质量,下游行业企业对公司产品的质量和供货能力十分重视,常采用认证采购的模式。由于对采购成本和认证成本的控制,上游供应商和下游采购商形成了比较稳固的合作模式,新的供应商加入供应链比较困难。

  我国化工产品原料品种齐全,可以为光刻胶产业提供充足和价格低廉的基础原料供给,但是由于资金和技术的差距,生产光刻胶的原料如引发剂、增感光刻胶树脂等被外资垄断导致光刻胶自给能力不足。当下电子产业链已经主要被日本、韩国、台湾地区的大公司控制,我国电子化学品供应商要突破现有的产业格局需要在研发、市场开拓方面付出巨大的努力。

  三、国内行业发展起步较晚,光刻胶需求增长迅速

  光刻胶是精细化工行业技术壁垒最高的材料,具有生产工艺复杂、生产及检测等设备投资大、技术积累周期长等特征。长期以来被日本、欧美的专业公司所垄断,日本的企业占据 80%的全球市场,主要企业包括日本的TOK、JSR、富士、信越化学和住友化学,美国的陶氏化学、欧洲的 AZEM 和韩国的东进世美等,市场集中度非常高。

  随着全球光电产业、消费电子产业、半导体产业逐步向我国转移,光刻胶下游产业PCB、LCD、半导体等产业发展迅速,对光刻胶需求大增。我国光刻胶行业发展起步较晚,生产能力主要集中在 PCB 光刻胶、TN/STN-LCD 光刻胶等中低端产品,而 LCD 和半导体用光刻胶等高端产品仍需大量进口。

  据统计资料显示,2017年中国光刻胶行业产量达到7.56万吨,较2016年增加0.29万吨,其中,中国本土光刻胶产量为4.41万吨,与7.99万吨的需求量差异较大,说明我国供给能力还需提升。

  四、政策推动、下游需求拉动中国光刻胶规模不断扩大

  我国“十三五”规划中提出要引导制造业朝着分工细化、协作紧密方向发展,促进信息技术向市场、设计、生产等环节渗透,推动生产方式向柔性、智能、精细转变;《国家集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;《国家重点支持的高新技术领域(2015)》中提到“高分辨率光刻胶及配套化学品作为精细化学品重要组成部分,是重点发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造2025》重点领域。

  目前,我国PCB产能已占据全球半壁江山,PCB光刻胶专用化学品传统业务增长稳健;随着我国面板生产技术取得巨大突破,国内 LCD 面板产能扩增迅速,液晶面板市场需求持续领跑全球;政府大力扶持集成电路产业,设立多种产业基金支持集成电路产业发展,集成电路产值增速高于全球。国内下游市场需求大增,促使光刻胶市场规模持续增长。但随着PCB、LCD的国产化替代,集成电路产业的国产化进程不断加快,国产化替代是必然选择。

  2011-2017年,中国光刻胶市场规模不断提升,2017年中国光刻胶市场规模达到了58.70亿元;2011-2017年,中国光刻胶均价也整体呈现下降趋势,近几年,由于我国高端光刻胶产能的提升,光刻胶的均价也有所升高,2017年中国光刻胶的均价为7.35万元/吨。

  以上数据来源参考前瞻产业研究院发布的《2018-2023年中国信息化学品行业产销需求与投资预测分析报告》。

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  2018-2023年中国信息化学品行业产销需求与投资预测分析报告

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