国内目前做光刻机比较厉害的就是上海微电子设备装备有限公司了，它的光刻机目前基本还是处于90nm水平，今年可能会有28nm的光刻机出现，关于我们什么时候能够做出像荷兰的ASML那么先进的光刻机，笔者觉得至少需要30年以上的时间，甚至更长。

1984年荷兰ASML成立，这个公司一直是主攻高端光刻机领域，目前全球能做光刻机的也就是荷兰ASML以及佳能和尼康几家，而佳能和尼康由于一些原因现在根本不是和荷兰ASML在一个级别上。而ASML做出的光刻机在几年前就可以生产7nm芯片，做出的光刻机处于供不应求状态。

而我们国内的光刻机水平仍然是以90nm为主，其它也是有一定的突破，但是大部分还是基于实验室的状态。也就是想要实现真正量产，还是需要一定的时间来完成，再就是以中芯国际为例来说，目前可以量产14nm芯片，也正在向着更先进制程突破，而全球最大的晶圆代工厂台积电现在都要量产5nm芯片，差距比较大。

西方国家为了制约我们国内芯片产业发展有一个《瓦森纳协定》对于很多技术都是封锁，这里还是就以这个做光刻机必备的镜头和光源以及轴承来说，荷兰ASML其实也是一个整合商，它也是把来自全球顶尖技术进行整合才得到如此先进的顶级光刻机。这里的镜头就是德国的蔡司，而蔡司也是ASML大股东，它的技术得到了几十年技术沉淀，为ASML提供顶级镜头。而这些镜头是不卖给我们，并且我们国内目前的镜头水平还是达不到蔡司那个水平。

再就是光刻机的光源系统，这个是由美国公司提供，就以美方对我们发展限制态度，自然不可能会让你用。而我们国内水平目前还是达不到它们那样的水平，然后就是轴承技术，也是难以达到德国如此强的技术，也可以说目前我们的工艺达不到。

因此综合来说，想要造出荷兰那样光刻机至少还是需要十年起步。这也不少唱衰国内的半导体产业，想要突破自然要面对现实，认清现实才能奋起直上。如果总想着一口吃个胖子，不去看自己不足，终究不会成功。而目前唯一的可行方法仍旧还是加大一定的研发投入，重视人才培养，多个行业进行联合突破，单靠一个企业是没办法完成一个如此复杂的机器。我们也不会甘于被别人卡脖子，只是目前来说需要时间突破，未来值得我们期待。