國內目前做光刻機比較厲害的就是上海微電子設備裝備有限公司了，它的光刻機目前基本還是處於90nm水平，今年可能會有28nm的光刻機出現，關於我們什麼時候能夠做出像荷蘭的ASML那麼先進的光刻機，筆者覺得至少需要30年以上的時間，甚至更長。

1984年荷蘭ASML成立，這個公司一直是主攻高端光刻機領域，目前全球能做光刻機的也就是荷蘭ASML以及佳能和尼康幾家，而佳能和尼康由於一些原因現在根本不是和荷蘭ASML在一個級別上。而ASML做出的光刻機在幾年前就可以生產7nm芯片，做出的光刻機處於供不應求狀態。

而我們國內的光刻機水平仍然是以90nm爲主，其它也是有一定的突破，但是大部分還是基於實驗室的狀態。也就是想要實現真正量產，還是需要一定的時間來完成，再就是以中芯國際爲例來說，目前可以量產14nm芯片，也正在向着更先進製程突破，而全球最大的晶圓代工廠臺積電現在都要量產5nm芯片，差距比較大。

西方國家爲了制約我們國內芯片產業發展有一個《瓦森納協定》對於很多技術都是封鎖，這裏還是就以這個做光刻機必備的鏡頭和光源以及軸承來說，荷蘭ASML其實也是一個整合商，它也是把來自全球頂尖技術進行整合纔得到如此先進的頂級光刻機。這裏的鏡頭就是德國的蔡司，而蔡司也是ASML大股東，它的技術得到了幾十年技術沉澱，爲ASML提供頂級鏡頭。而這些鏡頭是不賣給我們，並且我們國內目前的鏡頭水平還是達不到蔡司那個水平。

再就是光刻機的光源系統，這個是由美國公司提供，就以美方對我們發展限制態度，自然不可能會讓你用。而我們國內水平目前還是達不到它們那樣的水平，然後就是軸承技術，也是難以達到德國如此強的技術，也可以說目前我們的工藝達不到。

因此綜合來說，想要造出荷蘭那樣光刻機至少還是需要十年起步。這也不少唱衰國內的半導體產業，想要突破自然要面對現實，認清現實才能奮起直上。如果總想着一口吃個胖子，不去看自己不足，終究不會成功。而目前唯一的可行方法仍舊還是加大一定的研發投入，重視人才培養，多個行業進行聯合突破，單靠一個企業是沒辦法完成一個如此複雜的機器。我們也不會甘於被別人卡脖子，只是目前來說需要時間突破，未來值得我們期待。