集微网消息（文/holly），据LawStreet报道，应用材料日前提起了一项诉讼，要求法院对被告Demaray LLC拥有的两项专利作出不侵权的宣告性判决。这起诉讼的起因是应用材料担心Demaray对其几个客户提出的诉讼，指控他们侵犯半导体制造专利并牵扯到了应用材料。

图源：网络

应用材料在诉讼文件中指出，Demaray对其客户的诉讼给公司的产品蒙上了一层“乌云”，威胁到了公司的业务、与客户和合作伙伴的关系，以及反应堆的销售，并在公司和Demaray之间引发了一场可由法院审理的争议。

诉状称，应用材料是一家美国公司，提供用于半导体制造的技术和产品，包括但不限于“Endura”产品线中的反应堆。Demaray是一家由Richard Ernest Demaray博士创立的公司，他是本案专利的指定发明人，而Demaray的成立目的提供与组合相关的研发活动、知识产权演示和开发以及新产品应用。

据悉，此前Demaray对三星和英特尔的诉讼中提到了应用材料的名字，应用材料担心自己接下来可能会被起诉，因此要求法院作出非侵权判决。例如，应用材料引用了一项投诉，Demaray指控应用材料的客户制造、使用、销售、供应或导致供应包括磁控溅射反应堆的半导体制造设备”侵犯了其专利权，在投诉中也被认定为“来自应用材料公司”。

此外，应用材料称公司在“Endura”产品线中的反应堆没有直接或间接侵犯Demaray任何声称的专利权，并简要解释了其产品在成分和工艺上的差异。

（校对/零叁）