光刻机(Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。

在“中兴事件”之后，芯片对于一个企业、一个国家显得尤为重要，同时也证明了科技确实存在国界。你知道光刻机对于芯片来说到底有多重要吗？　光刻机作为生产芯片的工具，光刻机也显得尤为重要，虽然华为已经有了很多的自研芯片，但是这些芯片并不是华为生产的，华为只是在设计芯片，并不生产芯片，这些芯片需要交给芯片代工厂进行生产。可以生产比较先进的代工厂全球只有两家，台积电与三星，没有一家位于大陆。大陆可以生产出比较先进芯片的代工厂也只有中芯国际了，目前中芯国际的14nm工艺生产线已经实现大规模的量产，华为部分芯片已经转移到中芯国际的手中了。但是中芯国际依然与台积电有着较大的差距，台积电今年就可以实现5nm工艺的大规模量产，未来的苹果A14处理器以及华为的麒麟1020处理器都是采用的5nm工艺制程。

光刻机的制造过程是非常复杂的，一台光刻机有8万多个零件，大多数的零件都是目前最先进的。对于一台光刻机来说，最主要的零件就是镜头与光源，全球范围内做镜头最好的公司就是德国蔡司，做光源最好的公司是Cymer。这两家公司都已经被荷兰地ASML公司收购了，所以其他的公司很难再买到最好的镜头与光源。对于一台光刻机来说，并不是一蹴而就的，需要我国整个半导体行业的发展，并不是只要几个公司的努力就可以完成的。既然很多的零件我们买不到，只能通过我们自己的企业制造，所以是一个很漫长的过程。　虽然目前我们的光刻机技术已经落后于他人，相信在国内企业的共同努力之下，在未来一定会有一个突破的发展！