根据中国微米纳米技术学院的相关消息，近日中科院传来好消息，中国在光刻机技术上迅速腾飞，苏州纳米所在超高精度光刻机上取得了重要的进展。说到这个，很多网友还表示这还要多谢美国的封锁制裁，要不是美国的一味制裁，我们的压力也不会这么大，有压力才会有动力，不然中国的光刻机技术很有可能会因为依赖进口，没有办法在国产光刻机上有什么大的进展，那样还是会受到别的国家的制约，就像这一次的华为内核芯片事件，指不定哪一天又被人扼住了命运的脖颈，所以还是要发展本国一些方面的核心技术。

新超高精度激光光刻加工

此次中科院提交报告中说到的新型超高精度激光光刻技术，在一定程度上一种超越。我们知道荷兰的光刻机技术是世界上的佼佼者，荷兰的ASML更是世界上唯一一个可以生产EUV的地方，曾经在他们的研究下表示，7nm以下的相关产品工艺都是必须要用EUV光刻机进行的，但是现在根据中科院的报告，中科院发现了一种不需要EVU就可以进行5nm特征的激光光刻，这是非常震撼人心的。里面涉及到双激光的交叠技术，经过寻找探寻到多种受体的的材料，拓展了很多的直接激光采写的应用方面。

光刻机技术的重要性

可能很多人对光刻机不了解，但是大家身边有一个东西里面的核心物件就是来源于光刻机。智能机发展到现在，真的是能够将大部分以前只能用电脑使用的软件集成到随身携带的手机里面，手机的核心部件就是芯片，而光刻机就是能够制作芯片的工具。看看现在中国市场上的手机，无论是国产的还是进口的，大多是来自国外的芯片，比如我们熟悉的华为，此前用的相关系统是谷歌公司的安卓，中国国产手机的系统大多是来自安卓系统。而其他比较常见的就是苹果的IOS，这些主流系统的芯片和相关系统都是别的国家的，这无疑是被别人扼住了命运的咽喉。

这一次华为因为5G被美国针对，导致白宫当局直接下达相关政令限制有关的出口，在芯片上封锁华为。从这件事情上就可以看出，我们必须在关键技术上加以研发，不然在未来发展的路上肯定是会遇到问题的。所以说光刻机的重要性是非常大的。

中国的光刻机技术为什么一直没有办法有大的突破

荷兰的ASML公司曾经表示过，其实他们从来不会担心将光刻机卖给中国，也不会担心中国可以复制出来。他为什么有底气这么说，是因为一台ASML公司出台的光刻机技术有近90%的高精度仪器，而这些仪器并不是来自一个国家，而是来自很多发达国家。比如美国的发射器和德国的相关镜头。当然笔者说这些也并不是说中国只能通过复制技术去解决相关的产品，而是因为涉及到很多国家，所以在进出口相关的仪器上会受到很多的限制，没有办法得到零件上的支持，这才是主要的问题。

此次中科院主要是从现实出发，针对目前的中国现状，开拓出一条适合中国创造光刻机的道路。毕竟我们没有那么多高集成的仪器。此次研发出来的主要是针对集成电路光子芯片等出来，只有具体化到这么小的层面，才能在最后的光刻机上有大的突破。伴随着中国科技产品的精密性越来越高，光刻机问世指日可待，我们静候佳音就可以了。