作爲國民品牌華爲，近一兩年真是多災多難。

其中被討論得最多的，自然就是芯片被斷供這件事，直接影響了華爲的核心大戰略。

自然的，華爲也順勢推出了自己的新策略——遲早要走這一步，晚一點遭遇不如早一步佈局出發。

爲什麼華爲每年這麼多錢投入，基礎儲備實力這麼強，卻還是在芯片上受制於人呢？

這就不得不說到芯片行業，這個信息工業皇冠上的明珠的特殊之處了。

設計芯片和生產芯片是兩碼事，設計芯片就像畫圖紙，只要有點實力都可以，但是要把芯片生產出來，那就不是簡單的事情了。

現階段能生產芯片的企業不多，比如臺灣的臺積電。

而生產芯片最關鍵的，自然就是生產機器——光刻機了。

現今最先進的光刻機，只有一家公司可以生產，那就是全球光光刻機巨頭，荷蘭的阿斯麥（ASML）公司。

你也許會好奇，明明是荷蘭的公司，爲什麼要聽美國的話呢？

因爲這裏有一段淵源。

首先我們得從光刻機的工作原理說起，光刻機看起來很複雜，集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域等等頂尖技術。

但是本質上原理很形象，它就像一臺高精度的底片曝光照片打印機，負責把“底片”，也就是設計好的芯片電路圖，曝光到相片紙上。

那麼它的基本結構也就不復雜了——一臺光源發射器，一個用來調整光路和聚焦的光學鏡頭，加一個放置硅晶圓的曝光臺。

光源發射器就像刻刀一樣，光波越短，刻刀就越鋒利。

調整光源和聚焦的光源鏡頭，就來自德國的光學大師卡爾蔡司，這種鏡頭多精密呢？如果把鏡頭放大到一個地球那麼大，它上面只允許有一根頭髮絲那樣的凸起。

而最關鍵的還是對準技術，芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必須多次曝光，就像用單色打印機打一張彩色圖紙，四個單色分別打印，必須一一對應上，否則圖案就毀了。

阿斯麥最早就是憑藉對準技術起家，一點點成爲了現在的光刻機巨頭。

這裏面爲什麼會出現美國的身影呢？

那就得說到摩爾定律了，隨着芯片產業的急速發展，市場對於芯片的要求也越來越高，同樣一張圖上需要刻的圖越來越複雜，前提就是刻刀越來越小。

1990年代，刻刀被卡在了193納米的深紫外光，想要升級更短實在太難。

尼康找了一個方案，準備重新研發157納米的F2激光，但是與此同時，臺積電的一位天才工程師林本堅想出了一個怪招——只要在曝光的硅晶圓上方加1毫米厚的水，通過水的折射，就可以把193納米的深紫外光變成134納米的光。

而且這種創新並不需要重新研發各種配套材料，可以迅速擴大競爭力。

等尼康反應過來時，已經晚了，這也是阿斯麥崛起的一大契機，也是阿斯麥和臺積電的緣分開始之時。

但是100納米以上依然遠遠趕不上摩爾定律，市場急需推出更短，更小的刻刀。

這時候芯片界老大英特爾覺得，小打小鬧不行，必須得把波長縮短一個數量級——13.5納米纔行，這就是現在的極紫外光源。

但是這個研發資金太大了，誰都無法一己之力完成。

除非國家介入，於是英特爾和美國能源部牽頭，成立了一個研究組織極紫外聯盟，包括了各大頂尖公司和國家實驗室，耗資兩億美元，幾百位頂級科學家，終於研究出了這個技術。

但是交給誰了，那時候日本人把美國人在芯片領域打的落花流水，美國人肯定不願意。

於是只好把這個技術給了阿斯麥，前提就是一大堆承諾——幾乎把阿斯麥變成了一個美國公司，比如前三大股東就是美國公司。

這也是爲什麼說美國不讓賣給中國，它就不敢賣，因爲技術是人家花大價錢，大精力研究出來的，沒辦法。

而且就算我們偷偷買了一臺回來呢？有用麼？

當然也沒用，這種高精尖工藝，難度不在機器本身，而在於操作機器的軟件，在於每個月的維護團隊的經驗，否則你買回來生產個一段時間就壞了，那損失的可是一架波音747的錢。

其實我國光刻機技術起步的並不晚，在1977年就研製出了第一臺國產光刻機，和當時的世界先進水平差別不大。

只是後來信奉“造不如買”的理念，讓光刻機的發展停滯了下來，直到21世紀初才重新起航，這裏面落下的技術，得一點點補上。

現在咱們國內最牛的光刻機是上海的微電子，可以生產90納米的芯片，和世界上最先進的7納米、甚至5納米還差得遠。

不過最新的消息，上海微電子過兩年會出來28納米的新一代浸入式光刻機，基本上可以滿足咱們5G時代物聯網芯片的基本需求。

再說，就像單色打印機多打幾次可以讓圖案變得更復雜一樣，咱們28納米多來幾次，也是可以生產7納米芯片的，只是產能沒那麼高而已，效率比較慢而已。

對於我們來說，只要不下牌桌，我們終將超越！哈哈哈哈