關於芯片製造，我們必須正視我們存在的短板，相信有不少人第一個想到的應該就是EUV光刻機了，我們無法生產製造，世界上也只有荷蘭的ASML可以供應，遺憾的是，在美國的淫威之下，這條路暫階段也斷了。

三星

以現階段來說，EUV光刻技術也算是最好的芯片製造技術了，雖然我們有人說我們要想實現超越，就需要在其它方面想方設法，甚至是彎道超車，但是又談何容易，在沒有很好的方案出現之前，還是腳踏實地的在EUV上努力，甚至還需要在DUV上繼續努力。

如何努力？當然也是技術上，尤其是一些專利上的積累，我們必須重視起來，這方面，我們可以從韓國學到一些經驗：

ASML

根據BusinessKorea的統計，過去十年，在EUV光刻技術的專利積累方面，以三星爲代表的韓國企業獲得了巨大進步，其中在2014 年達到 88 項、2018 年爲 55 項，2019 年爲 50 項。

以全球相關專利來說，卡爾蔡司佔18％，三星電子佔15％，ASML佔11％，S＆S Tech（韓國）佔8％，臺積電爲6％，SK海力士爲1％，這六家公司佔到總專利申請量的 59%。

三星

而在工藝技術方面，三星電子佔39％，臺積電佔15％；在膜方面，S＆S Tech佔28％，Hoya（日本）佔15％，Hanyang University（韓國）佔10％，Asahi Glass（日本）佔10％，三星電子佔9％。

通過這些數據對比，我們可以看出來，以三星爲代表的韓國企業正在先進製程工藝上正在獲得多方面的科研收穫，尤其是三星的成就，已經超越臺積電2倍還要多，稱之爲芯片製造領域的巨頭毫不爲過。

臺積電

值得一提的是，三星可不僅僅是在EUV光刻技術上在進行不斷的積累，而且在自研芯片上也在進行不斷的投入，雖然說三星自研芯片之路一直充滿坎坷，但是長時間的技術以及資金投入，正在換來更多的成果，就在近日還推出了自家第一款5納米工藝的芯片：Exynos1080。

臺積電

雖然現在還無法知道Exynos1080的實際的的、具體性能，但是根據三星自己爆出來的數據可以看出來，這顆芯片就是奔着高通的驍龍865去的，而Exynos1080的升級版Exynos2100則是對標的是驍龍875。

ASML

由此可以看出來，三星在自研芯片之路上一直都沒有放棄，加上在先進製程工藝上的不斷努力，儘管有落後，但是進展還是非常明顯的，這些也是我們應該看到的三星的可貴之處，也是值得我們借鑑的：不計一時的失敗，堅持不懈的投入，直到成功。

三星

有些事雖然很急，但是技術研究也是急不來的，尤其是在一些基礎研究方面，更是急不得。在芯片的製程工藝上，我們現在已經實現了14納米的製造，基本上滿足了絕大多數的需求，不過，現在不是滿足的時候，更不是駐足展望的時候，畢竟EUV那座山在那，還需要我們翻過去。