來源：財聯社

編輯/馬蘭

知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片製造設備EUV（極紫外光刻機），以製造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。

日本經濟產業大臣西村康稔之後證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規模生產先進記憶芯片。

而詳細計劃可能在今日（週四），日本首相岸田文雄會見美光首席執行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團之後，正式宣佈。

研究公司Omdia的分析師Akira Minamikawa表示，美光的廣島工廠將在G7半導體供應鏈計劃雄心中發揮關鍵作用，這將成爲美國公司發展的最重要地區之一。

自2013年以來，美光已經在日本投資超過130億美元，其中包括去年宣佈的1-β存儲芯片。而最新的投資將幫助美光在日本生產所謂的1-γ芯片，這是美光計劃在2024年底推出的更先進技術。

日本的產業雄心

美光新引入最先進的光刻機並開始1-γ芯片的開發，也代表着日本在芯片尖端領域的最新一步。

除了研發DRAM的美光之外，日本政府還花費數十億美元鼓勵臺積電增加其在日本的芯片產能，併爲日本本土芯片企業Rapidus提供資金，以實現在2027年生產2納米芯片的夢想。

除了政府的財政支持之外，美光也將向日本工廠追加自有投資，但目前其尚未披露確切消息。此外，廣島市政府也可能提供額外的資源。

而由於芯片行業供應過剩，美光正在削減成本保留實力，但其認爲2023年下半年可能會看到DRAM市場觸底反彈。

美光此前曾表示將2023財年的資本支出預算同比削減30%至約80億美元，其中晶圓廠設備資本支出同比將削減近50%。日本政府的財政補貼無疑是幫助美光購置新EUV設備，推動1-γ芯片進程的關鍵動力。