投資建議

國內半導體產業蓬勃發展，爲半導體設備公司提供了廣闊的平臺市場，薄膜沉積設備廠商深度受益。美國對華半導體制裁持續，先進製程受阻，中短期內，國內半導體產業鎖定成熟製程快速拓展，形成存量國產替代和產業增量拓展的雙重推手，外部市場環境優越，國內半導體設備廠商迎來前所未有的機遇；遠期看，先進製程快速發展，半導體工藝複雜度大幅提高，對半導體設備的市場需求也隨之攀升，待國內先進製程取得突破後，對設備產業鏈將起到巨大的帶動作用。薄膜沉積設備作爲半導體制造三大核心設備之一，是後續幾乎所有工藝的基礎，重要性不言而喻，在目前優越的市場環境及政策支持下，產業鏈共同發力，需求端火熱，供給端也在努力追趕、加速放量，疊加目前仍然較低的國產化水平，產業前景長期向好的趨勢較爲明確。

PVD、CVD是薄膜沉積主流，ALD作爲沉積設備新寵，在先進製程中的應用越發凸顯。PVD、CVD佔據薄膜沉積賽道的半壁江山，半導體制造中絕大多數金屬層、介質層及半導體層均爲PVD、CVD設備製造；隨着先進製程的不斷發展，對膜厚精度、薄膜質量、臺階覆蓋率等提出了更高的要求，HDPCVD、SACVD等技術應運而生，且ALD由於具備原子層級的膜厚控制能力，在先進製程的核心工藝（如SADP、HKMG等）中發揮關鍵作用，逐漸成爲先進製程工藝平臺的“新寵”。

國內多家廠商在薄膜沉積設備領域均有涉獵，側重點有所差異，競爭格局較爲良性。北方華創是國內PVD龍頭，稀缺性較強，且在LPCVD、APCVD、ALD領域也有所佈局，產品已經批量應用到半導體產線中；拓荊科技專注薄膜沉積設備，擁有PECVD、SACVD、ALD三大產品系列，公司處於快速上升階段；微導納米依靠ALD設備起家，在光伏、半導體中均有應用，且公司是國內首家成功將量產型High-k ALD應用於28nm節點集成電路製造前道生產線的國產設備公司，在ALD領域頗具競爭優勢。上述半導體設備廠商的產品結構有所不同，側重點分化明顯，形成了較爲良性的差異化競爭格局。

投資建議：當前國內半導體產業擴張如火如荼，而海外對華半導體制裁持續加碼，國內半導體設備廠商面對優越的市場環境和政策支持，前景較爲樂觀；薄膜沉積設備作爲半導體核心設備之一，在半導體制造中具有重要作用，在國產化替代、技術進步以及產業擴張帶來的多重市場需求下，產業鏈共同發力，PVD、CVD、ALD等薄膜沉積設備賽道在未來較長時間內將持續火熱，建議積極關注。

風險提示：（1）美國對華半導體制裁的風險。（2）國產化替代市場需求不及預期的風險。（3）國內公司技術突破不及預期的風險。