格隆匯4月30日丨華海清科(688120.SH)在投資者互動平臺表示，目前公司溼法設備包含清洗設備及供液系統，其中清洗設備已批量用於公司晶圓再生生產，2023年，首臺12英寸單片終端清洗機HSC-F3400機臺出機發往國內大硅片龍頭企業進行驗證；應用於12英寸集成電路FEOL/BEOL晶圓正背面及邊緣清洗的清洗機已完成裝配；用於溼法工藝設備中研磨液、清洗液等化學品供應的SDS/CDS供液系統設備已獲得批量採購。應用於Cu、Al、W、Co等金屬製程的薄膜厚度測量設備已發往多家客戶驗證，實現小批量出貨，部分機臺已通過驗收。具體產品介紹請詳見公司披露的2023年年度報告。 近年來，公司晶圓再生、關鍵耗材與維保等服務業務收入約佔營業收入的比例在10%左右。公司晶圓再生產能已經達到10萬片/月，在國內知名大廠均已完成前期導入工作，獲得多家大生產線批量訂單並長期穩定供貨；隨着公司CMP設備保有量的不斷攀升，耗材零部件、拋光頭維保服務等業務量也會相應提升，關鍵耗材維保及技術服務將成爲公司新的利潤增長點。