黄光工艺制程异常处理与分析

显影时产生浮胶的原因有

涂胶前玻璃表面不洁净，表面有油污，水汽等，或玻璃清洗后在空气中放置时间过长，空气中的水汽附在玻璃表面上；或者涂胶膜操作环境湿度太大，使胶与玻璃表面粘附不良。因此，必须注意做好玻璃表面洁净处理和操作环境的温湿度及清洁工作。

光刻胶配制有误胶陈旧不纯，胶的光化学反映性能不好，使胶与ITO层结合能力差；或者胶膜不均匀和过厚，引起粘附不良。

前烘时间不足或过液。烘烤时间不足，胶膜内溶剂不能及时挥发，显影时部分胶膜被溶除；烘烤时间过长，胶膜翘曲硬化，胶的感光特性会发生变化。所以前烘必须恰当。

曝光不足，光硬化反映不彻底，胶膜溶于显影液中，引起浮胶。因此，在保证分辨率的前提下，曝光要充分。

显影时间太长，显影液从胶膜底部不断渗入，引起浮胶。因此必须控制好显影时间。

B.蚀刻IT0层时产生浮胶的原因有

蚀刻是产生的浮胶，除了与显影时产生的浮胶有相同原因外，还有以下几个原因；坚膜不足，胶膜烘烤热固化不够。所以坚膜要充分，但也不能太高。蚀刻液温度太低或太高。温度太低，蚀刻缓慢，则蚀刻时间太长，蚀刻液穿透或从底部渗入胶膜，引起浮胶；温度太高，蚀刻液活泼性强，也可能产生浮胶。因此蚀刻温度要选择适当。蚀刻液配制失误，蚀刻液的活泼性太强。

a．产生毛刺和钻蚀的原因有：

涂胶前玻璃表面洁净度不够，存在污物，油污、小颗粒吸附水汽，使光刻胶与ITO层粘附不良，引起毛刺或局部钻蚀。光刻底板不好，图形边缘有毛刺状缺陷。光刻胶过滤不好或太陈旧，存在颗粒状物质，造成粘附不良。显影时间过长，图形边缘发生钻溶，蚀刻时就要造成钻蚀。曝光不足，光硬化反映不彻底，显影后在胶膜上产生溶坑或图形边缘引起钻溶，蚀刻时造成毛刺或钻蚀.

b．产生针孔的原因

光刻掩模版质量不好，本身有针孔；

涂光刻胶时，操作环境被灰尘沾污；

光刻胶涂得太薄，或光刻胶本身抗蚀性能太差；

曝光时间控制不好；蚀刻液配比不当；

玻璃表面本身缺陷也可能造成针孔

c．产生“小道”的原因及其处理方法

由于菲林不好，图案区有针孔或损伤，曝光是光透过这些针孔，使这些地方的胶膜局部感光，成为不溶于显影液的胶膜“小岛”，蚀刻后成为ITO层的“小岛”，出现这种情况应及时发现并更换或处理菲林。

若显影不彻底，则在光刻窗口内留下一层不易察觉的胶膜，这层胶膜在蚀刻ITO层的过程中起阻蚀作用，从而造成ITO层蚀刻不彻底，残留下ITO层“小岛”。出现这种情况在胶膜抗蚀能力允许的条件下，应适当延长蚀刻时间。蚀刻液不纯，特别是沾有灰尘等异物，往往对ITO层有腐蚀作用，形成ITO层“小岛”。因此，保持玻璃表面清洁，无灰尘污染，保持蚀刻液清洁并定期更换蚀刻液，可以减少由此产生的“小岛”。

蚀刻时间与蚀刻速度有关，而蚀刻速度又与酸液和温度有关，若蚀刻时间太短，ITO层未蚀刻干净，会导致短路而蚀刻时间也不宜太长，因为胶膜抗蚀能力有限，时间长了蚀刻酸液会穿透蚀胶膜产生浮胶或使分辨率降低，图形变坏等。

蚀刻后玻璃应检查项目有：

蚀刻不足、蚀刻过度、无卜、短路等。

蚀刻工艺参数之设定：

酸液溶度为（一般玻璃）6.0-6.5N,（特殊玻璃）为6.4-6.8N,温度为45±2℃蚀刻速度：TN为3.6±0.1min,STN为3.2±0.1 min，喷洗压力为0.1-0.3kg/c㎡. 蚀刻应注意之项，在加酸时停止放玻璃，待酸打满后在打开循环加热器开关，等温度恒定在蚀刻玻璃。

7. 剥膜

所谓剥膜，就是将经过蚀刻的玻璃表面残留的光刻胶去除干净。

剥膜液溶度（KOH）需控制在0.8-1.6N范围内。

8.DI水清洗

用纯水清洗玻璃表面，完全去除KOH残夜和表面沾污