黃光工藝製程異常處理與分析

顯影時產生浮膠的原因有

塗膠前玻璃表面不潔淨，表面有油污，水汽等，或玻璃清洗後在空氣中放置時間過長，空氣中的水汽附在玻璃表面上；或者塗膠膜操作環境溼度太大，使膠與玻璃表面粘附不良。因此，必須注意做好玻璃表面潔淨處理和操作環境的溫溼度及清潔工作。

光刻膠配製有誤膠陳舊不純，膠的光化學反映性能不好，使膠與ITO層結合能力差；或者膠膜不均勻和過厚，引起粘附不良。

前烘時間不足或過液。烘烤時間不足，膠膜內溶劑不能及時揮發，顯影時部分膠膜被溶除；烘烤時間過長，膠膜翹曲硬化，膠的感光特性會發生變化。所以前烘必須恰當。

曝光不足，光硬化反映不徹底，膠膜溶於顯影液中，引起浮膠。因此，在保證分辨率的前提下，曝光要充分。

顯影時間太長，顯影液從膠膜底部不斷滲入，引起浮膠。因此必須控制好顯影時間。

B.蝕刻IT0層時產生浮膠的原因有

蝕刻是產生的浮膠，除了與顯影時產生的浮膠有相同原因外，還有以下幾個原因；堅膜不足，膠膜烘烤熱固化不夠。所以堅膜要充分，但也不能太高。蝕刻液溫度太低或太高。溫度太低，蝕刻緩慢，則蝕刻時間太長，蝕刻液穿透或從底部滲入膠膜，引起浮膠；溫度太高，蝕刻液活潑性強，也可能產生浮膠。因此蝕刻溫度要選擇適當。蝕刻液配製失誤，蝕刻液的活潑性太強。

a．產生毛刺和鑽蝕的原因有：

塗膠前玻璃表面潔淨度不夠，存在污物，油污、小顆粒吸附水汽，使光刻膠與ITO層粘附不良，引起毛刺或局部鑽蝕。光刻底板不好，圖形邊緣有毛刺狀缺陷。光刻膠過濾不好或太陳舊，存在顆粒狀物質，造成粘附不良。顯影時間過長，圖形邊緣發生鑽溶，蝕刻時就要造成鑽蝕。曝光不足，光硬化反映不徹底，顯影后在膠膜上產生溶坑或圖形邊緣引起鑽溶，蝕刻時造成毛刺或鑽蝕.

b．產生針孔的原因

光刻掩模版質量不好，本身有針孔；

塗光刻膠時，操作環境被灰塵沾污；

光刻膠塗得太薄，或光刻膠本身抗蝕性能太差；

曝光時間控制不好；蝕刻液配比不當；

玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔

c．產生“小道”的原因及其處理方法

由於菲林不好，圖案區有針孔或損傷，曝光是光透過這些針孔，使這些地方的膠膜局部感光，成爲不溶於顯影液的膠膜“小島”，蝕刻後成爲ITO層的“小島”，出現這種情況應及時發現並更換或處理菲林。

若顯影不徹底，則在光刻窗口內留下一層不易察覺的膠膜，這層膠膜在蝕刻ITO層的過程中起阻蝕作用，從而造成ITO層蝕刻不徹底，殘留下ITO層“小島”。出現這種情況在膠膜抗蝕能力允許的條件下，應適當延長蝕刻時間。蝕刻液不純，特別是沾有灰塵等異物，往往對ITO層有腐蝕作用，形成ITO層“小島”。因此，保持玻璃表面清潔，無灰塵污染，保持蝕刻液清潔並定期更換蝕刻液，可以減少由此產生的“小島”。

蝕刻時間與蝕刻速度有關，而蝕刻速度又與酸液和溫度有關，若蝕刻時間太短，ITO層未蝕刻乾淨，會導致短路而蝕刻時間也不宜太長，因爲膠膜抗蝕能力有限，時間長了蝕刻酸液會穿透蝕膠膜產生浮膠或使分辨率降低，圖形變壞等。

蝕刻後玻璃應檢查項目有：

蝕刻不足、蝕刻過度、無卜、短路等。

蝕刻工藝參數之設定：

酸液溶度爲（一般玻璃）6.0-6.5N,（特殊玻璃）爲6.4-6.8N,溫度爲45±2℃蝕刻速度：TN爲3.6±0.1min,STN爲3.2±0.1 min，噴洗壓力爲0.1-0.3kg/c㎡. 蝕刻應注意之項，在加酸時停止放玻璃，待酸打滿後在打開循環加熱器開關，等溫度恆定在蝕刻玻璃。

7. 剝膜

所謂剝膜，就是將經過蝕刻的玻璃表面殘留的光刻膠去除乾淨。

剝膜液溶度（KOH）需控制在0.8-1.6N範圍內。

8.DI水清洗

用純水清洗玻璃表面，完全去除KOH殘夜和表面沾污