iPhone SE Plus概念機：挖孔全面屏，還是側面指紋

來源：快科技

對於蘋果來說，想要在iPhone中加入屏下指紋，並不是很容易的事情，而事實上他們也在做這樣的工作。

近日曝光的新專利文檔顯示，蘋果也考慮用同樣的方法，讓Face ID組件也與屏幕深度集成。待到這項技術投入使用，我們有望看到沒有劉海缺口和開孔的全面屏。

蘋果指出，在將光學成像陣列放置於屏幕下方之後，其可定向接收透過屏幕傳來的光線（與屏幕發光的方向正好相反）。

這裏使用的光學成像陣列，適用於任何的成像、感測、或數據聚合等目的，包括但不限於環境光、近距、深度感知，結構光、光通信，以及指紋、虹膜、面容等生物特徵成像應用。

按照之前產業鏈的說法，蘋果可能會在2022年更新iPhone SE系列，而iPhone SE3預計會成爲屏下指紋的最先受益的機型，而一旦這個技術驗證成功後，那麼會全方面鋪開。

事實上，屏下指紋技術已經在安卓手機上廣泛使用，而蘋果也是有自己的指紋工廠，所以對於他們來說上這個技術並不難，就看庫克想要怎麼樣的體驗效果了。