每經記者 劉明濤    每經編輯 彭水萍

今日A股低開後快速反彈，創業板指、科創50一度漲逾3%，午前各大指數均出現一定回落，截至上午收盤，上證指數漲0.73%報2979.56點，深證成指漲1.65%報9196.71點，創業板指漲1.79%報1780.22點，科創50指數漲2.35%報789.76點，北證50指數漲1.07%。市場半日成交額6746.3億元，北向資金實際淨買入126.98億元。

流動性方面，央行公告稱，爲維護月末流動性平穩，2月29日以利率招標方式開展1170億元7天期逆回購操作，中標利率爲1.8%。Wind數據顯示，當日有580億元逆回購到期，因此單日淨投放590億元。

消息面，2月29日，國家統計局發佈《中華人民共和國2023年國民經濟和社會發展統計公報》稱，初步覈算，2023年國內生產總值1260582億元，同比增長5.2%，最終消費支出拉動國內生產總值增長4.3個百分點，資本形成總額拉動國內生產總值增長1.5個百分點，貨物和服務淨出口向下拉動國內生產總值0.6個百分點。

英偉達最新高端H200芯片將於第二季開始出貨，四大雲端服務供應商積極爭搶，以因應龐大的AI運算需求，Google主力代工廠廣達首批搭載該款AI芯片的AI服務器已開案，預計第三季完成後段測試並量產。

板塊方面，半導體產業鏈爆發，光刻機方向領漲，奧普光電、福晶科技、亞翔集成、柏誠股份等漲停，氫能源概念表現活躍，新動力、國林科技、洪濤股份也紛紛漲停。高位股退潮，國脈文化跌停，華研精機、克勞斯、華揚聯衆等大跌。

光刻機是半導體制造的核心設備，其性能直接決定了芯片的工藝水平，開發難度大，價值量高，市場規模可觀，目前市場主流光刻設備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類；分辨率、套刻精度、產率是光刻機的核心指標，其中，分辨率直接決定製程，極致的分辨率水平是光刻機產業不懈的追求，是光刻機最重要的指標，而套刻精度影響良率，產率影響光刻機的產能及經濟性。此外，多重曝光技術可在光刻機分辨率不變的情況下進一步提高芯片製程，應用較爲廣泛。

在全球半導體產業持續擴張的趨勢下，光刻機市場規模長期可觀；此外，光刻機開發難度大，產業壟斷性強，是海外對華半導體制裁的重災區，直接影響國內半導體產業先進製程的發展，因此光刻機自主突破的重要性尤爲凸顯，光刻機國產產業鏈頗具潛力。

這裏，通過整合多家券商最新研報信息，爲粉絲朋友帶來4家公司簡介，僅供參考。

1、新萊應材

半導體零部件的國產化落地已然進入攻堅期和深水區，公司在該賽道深耕多年地位顯著，疊加產品品類擴張有望打開全新空間。（華福證券） 

2、奧普光電

奧普光電近年通過“長光所體外孵化+上市公司外延併購”的模式實現快速發展。航天覆材需求旺盛，高精度光柵尺和編碼器、工業級CMOS圖像傳感器深度受益國產替代，公司進入業績拐點。（華西證券） 

3、上海新陽

公司自主研發的KrF光刻膠持續通過認證客戶，已在國內主流晶圓製造廠商處實現供貨，ArF光刻膠目前處於客戶端認證階段。拋光液方面，目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進入客戶端，實現銷售，CeO2體系的部分產品已在客戶產線上線測試，性能良好，公司的第二、第三成長曲線正逐步成型。（開源證券） 

4、艾森股份

公司立足於傳統封裝領域電鍍液及配套試劑，已佔據國內傳統封裝用電鍍液及配套試劑的主力供應商地位，並沿着產業鏈向其他應用領域發展，已逐步覆蓋被動元件、PCB、先進封裝、晶圓製造、光伏等領域的電鍍工藝環節，同時通過光刻膠及配套試劑產品切入光刻環節，相關產品將進一步提高公司產品線覆蓋的廣度，成長空間進一步打開，營收規模有望繼續擴大。（平安證券）