格隆匯4月18日｜荷蘭阿斯麥公司宣佈，其首臺採用0.55數值孔徑 (NA) 投影光學系統的高數值孔徑 (High-NA) 極紫外 (EUV) 光刻機已經成功印刷出首批圖案，這標誌着ASML公司以及整個高數值孔徑EUV光刻技術領域的一項重大里程碑。