在我們的日常生活中主要有不鏽鋼拋光和化學拋光這兩種形式。

這個不鏽鋼拋光又有分爲機械拋光 打磨拋光 振動研磨拋光 和磁力研磨拋光這幾種。

這種類型的拋光法主要是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑面Ra0.008μm。

那麼這個化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面

Ra10μm。

那麼還有一種電化學拋光它分爲電解拋光和等離子拋光

它們的原理與化學拋光類似：靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑Ra<1μm

那麼這個電化學拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件爲陽極，不溶性金屬爲陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達到鏡面效果

電解拋光原理

在BC段，陽極溶解速度高於電極界面附近各離子的擴散速率，於是在此形成了一層粘稠的液體膜層——擴散層，由於濃度梯度不同擴散層引起選擇性優先溶解，從而起到拋光的作用

等離子拋光主要是指電解液的黏度，黏度越大，液體膜層（Jacquet層）越容易形成，BC段範圍也就越寬，而且電解拋光的效果會相對提高與穩定。