中國第三屆國際進口博覽會在今天正式開幕了，而這次的進博會也是吸引了許多外企前來參加，向中國市場展出自身的產品。根據相關報道顯示，今年我國的進博會，共吸引了來自100多個國家和地區的近2600家企業參與其中，規模可以說是盛大空前。

在參會的外企當中，包括了通用、微軟、豐田等這些大家所熟知的企業。此外我們發現，在我國的這次進博會當中，還有一家外企十分吸人眼球，那就是來自荷蘭的光刻機巨頭ASML。

在現如今全球的光刻機領域當中，ASML公司可以說是名副其實的巨頭企業，處於行業領導地位。該公司所生產出的EUV光刻機，是高端芯片生產環節當中必不可少的設備之一。甚至可以這樣說，想要在芯片上領先於人，那麼來自於ASML的支持是關鍵所在。

在我國的這次進博會當中，ASML展出了其生產的DUV光刻機。據瞭解，該光刻機最高可用於生產7nm製程的芯片，算得上是如今國際市場當中的中高端光刻機產品。

此外，ASML還帶來了自身的一系列光刻解決方案。這之中包含了具備先進控制能力的光科機臺計算光刻，以及通過建模、仿真、分析等流程，使得產品精密度有所提高的光刻測量技術。

在芯片生產當中，光刻機設備的好壞將直接決定芯片產品的精密度與先進與否。相信對於這個領域有所瞭解的朋友都知道，DUV並不是ASML公司最爲先進的光刻機產品，其生產的EUV光刻機纔是現如今各大芯片企業夢寐以求的設備。那麼，爲何不見EUV光刻機的身影呢？

事實上，早在2018年時，我國的芯片巨頭——中芯國際，便向ASML公司提交了總值高達1.2億美元（摺合人民幣約7.9億元）的EUV光刻機訂單。按照雙方的計劃，該EUV光刻機產品本應在2019年年底時就完成交付，隨後於今年之內完成安裝等程序。

然而在美國出口新規的影響以及衛生事件的衝擊下，中芯國際至今仍然沒能等來EUV光刻機。而缺乏先進光刻機設備，也是成爲了目前我國芯片發展的一大難點所在。

值得一提的是，ASML公司日前表示，在除了EUV光刻機出口的其他領域當中，該公司都十分樂意與相關中企擴大合作。在10月14日的時候，ASML的相關發言人表示，由於美國升級的出口禁令限制，包含了美國零部件參與生產的EUV光刻機如果要向中國出口，是需要提前得到美國許可的。而如果是向中國買家出口DUV光刻機，則不需要出口許可證就可以辦到。

由此可見，來自於美國的干預，可以說是現如今ASML的光端EUV光刻機無法對華出口的主要原因所在。而想要解決眼下的芯片發展難題，自研高端光刻機也就成爲了關鍵點。

毫無疑問，我國也是意識到了這個問題，並且已經將自己研發製造光刻機提上了日程。在9月中旬的時候，我國中科院對外宣佈，已經將光刻機、光刻膠等中國芯片發展的難點設備、原材料列入了科研清單之中，接下來將會集中力量攻克這些難題。

其實我國在芯片設計方面，是不輸行業頂尖水準的。諸如華爲海思這些企業，都有着優秀的芯片設計能力，只是受制於設備等問題的限制，才無法實現高端芯片的自產。而相信在我國集中科研力量的情況下，一旦解決了光刻機設備等問題，中國芯片也將綻放出耀眼的光彩，不用再受制於人！

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