蘋果將爲iPhone採用屏下Touch ID和Face ID的消息已經不是第一次聽到了。最近，蘋果通過美國專利商標局獲得了一項新專利，可以用於屏下Face ID和Touch ID未來有望能看到蘋果能發佈沒有劉海屏的真全面屏。

專利文檔顯示，蘋果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內，

光學成像陣列位於屏幕後面，可定向接收通過屏幕傳來的光線，與屏幕發光的方向相反。

介紹中提到的光學成像陣列，適用於成像、感測或數據聚合等，包括但不限於環境光感測、近距、深度感應、結構光、光通信、生物特徵成像（例如指紋成像、虹膜成像、面部識別等）。

這項專利意味着，屏幕可能會有一部分"通過不透明的背板定義的成像孔"，蘋果稱之爲“光圈”。

爲了能夠正常使用Touch ID和Face ID，這塊“光圈”區域的屏幕像素密度比其餘部分要低一些。

還有一種可能，就是在使用Touch ID和Face ID時，這塊“光圈”區域的像素纔會降低，在不使用時，像素密度和其它區域一致。

在這份14000字的專利報告中，蘋果還提及了此專利也可用於MacBook上。

不過，蘋果已經擁有不少屏下Touch ID和Face ID識別專利，將來會採用哪一種尚未可知。

蘋果計劃於今年9月24日發佈新iPhone，依然會採用劉海屏和Face ID單生物識別方案，短期內是看不到同時採用Touch ID和Face ID識別方案的新機發布了，不過有消息稱iPhone SE 3 Plus可能會採用電源指紋識別方案。

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責任編輯：祥雲

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