來源:每日經濟新聞

15日早間,上證指數高開0.23%,深證成指漲0.16%,創業板指跌0.13%。開盤後市場繼續下探,創業板低開低走,下破2000點,爲2020年4月以來首次。

不過,上午10點國家統計局發佈8月經濟數據,多項數據超預期復甦,帶動各指數回升。截至午間收盤,兩市個股漲多跌少,上證指數漲0.28%,深證成指上漲0.11%,創業板指翻紅上漲0.11%。

截至發稿上證綜指、深證成指和創業板指年內漲幅分別爲1.49%、-7.33%、-14.17%。

昨日,在創業板上市的蘇大維格(300331.SZ)一則自稱“已實現光刻機銷售”的互動平臺回覆引爆市場,午後公司股價“20CM”直線漲停,其熱度衝上榜首。

深交所15日向蘇大維格下發關注函,要求說明公司光刻設備是否能夠直接用於芯片研發及製造。

光刻機引爆“20CM”漲停

14日下午,蘇大維格股價直線拉昇,截至收盤封死20%漲停。15日,蘇大維格低開6.43%,不久後翻紅快速上漲,截至午間收盤大漲13.13%。

消息面上,公司14日在互動平臺中稱:“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售,並已實現向日本、韓國、以色列等國家的出口;同時,公司向國內相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件。”

該消息發出後,不少投資者直呼蘇大維格是“國產之光”,市場情緒激烈。

據中國證券報,蘇大維格證券部相關工作人員表示,公司銷售的是激光直寫光刻機,與芯片光刻機沒有關係。該工作人員進一步解釋稱:“我們把(激光直寫)光刻機賣給他們,他們在芯片製造中可能會應用到我們的設備,產品本身不是芯片光刻機。”

激光直寫光刻機與投資者理解的芯片光刻機差距有多遠?某芯片上市公司高管表示,芯片廠現在用的基本都是掩膜光刻機,激光直寫光刻技術受限於激光波長,還無法滿足高端半導體器件製造的需求。

據財聯社報道,CINNO Research研究總監劉雨實介紹,“蘇大維格的光刻機是指激光直寫光刻機,與傳統掩膜光刻相比,激光直寫精度較差但成本也較低,多用於封裝等領域,具有較高的靈活性。”

資料顯示,蘇大維格是國內領先的微納結構產品製造和技術服務商,主要爲客戶提供不同用途微納光學產品的設計、開發與製造服務。公司主要產品爲微納光學產品、反光材料、設備。

業績方面,2023年上半年,蘇大維格實現營收7.88億元,同比下降10.47%;歸母淨利潤1217.69萬元,同比增長784.54%。

截至15日午間收盤,蘇大維格年內股價已漲100%,總市值97億元。

被深交所關注

蘇大維格15日早間收到深交所關注函,要求補充披露公司所生產光刻設備的具體類型、主要客戶及下游用途、以及最近一年一期境內外銷售情況,並覈實說明公司光刻設備是否能夠直接用於芯片研發及製造、主要技術參數是否與業內龍頭廠商存在較大差距,並進一步提示相關風險。

14日晚,蘇大維格在互動易上也再度回應了光刻機相關問題。

蘇大維格在互動平臺表示,在大類上,光刻機主要有兩種類型。第一類是掩摸光刻機,如ASLM的EUV設備,好比“複印機”,把掩摸上的圖形投射到硅片上,可用於各類芯片的批量生產,這類光刻機技術工藝和材料難度極高。

第二類是無掩摸光刻機,也稱直寫光刻機,包括激光直寫光刻機和電子束光刻機等,用於直接將數據轉變成相關圖形,好比“打印機”,可用於芯片/液晶掩摸、光模具及其他微結構的製備。

蘇大維格表示,公司長期從事光刻機的研製,光刻機實現了從自用到銷售給國內外科研院所,再到銷售給相關企業的發展路徑。目前,公司對外銷售的光刻機主要爲激光直寫光刻機,其中在科研教育領域具有一定的知名度和市場佔有率,在其他行業和領域已實現的銷售金額相對較小,部分應用領域離國際先進水平具有一定差距,需要持續的研發投入;納米壓印光刻領域,公司設備主要爲自用,對外銷售金額與直寫光刻機相比較小;此外,公司也開發了投影掃描的光刻設備,擬應用於光伏電鍍銅圖形化領域,目前尚未實現銷售。

編輯|盧祥勇 易啓江校對|孫志成

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