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消息稱三星計劃量產的1c DRAM使用MOR光刻膠
金十數據
2024-04-30 14:08
金十數據4月30日訊,三星正在考慮在其下一代DRAM極紫外(EUV)光刻工藝中應用金屬氧化物抗蝕劑(MOR)。MOR被業內認爲是下一代光刻膠(PR),會接棒目前先進芯片光刻中的化學放大膠(CAR)。三星正考慮在第6代10納米DRAM(1cDRAM)中使用MOR,主要在六層或七層上使用EUVPR,相關產品將於今年下半年投入生產。
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