金十數據4月30日訊，三星正在考慮在其下一代DRAM極紫外（EUV）光刻工藝中應用金屬氧化物抗蝕劑（MOR）。MOR被業內認爲是下一代光刻膠（PR），會接棒目前先進芯片光刻中的化學放大膠（CAR）。三星正考慮在第6代10納米DRAM（1cDRAM）中使用MOR，主要在六層或七層上使用EUVPR，相關產品將於今年下半年投入生產。